Nồi nung gốm SiC

Lò nung gốm SiC đóng vai trò là bình chứa và phản ứng quan trọng trong các quá trình như phát triển tinh thể SiC và GaN, lắng đọng epitaxial, khuếch tán và ủ nhiệt độ cao—trong đó độ tinh khiết, độ ổn định và tính đồng nhất nhiệt độ quyết định trực tiếp đến năng suất wafer và chất lượng tinh thể.

Đặc tính vật liệu

● Thành phần vật liệu: SiC hoặc CVD-SiC thiêu kết siêu tinh khiết (≥99.9%)

● Mật độ & Cấu trúc vi mô: Cấu trúc hoàn toàn đặc, hạt mịn và không xốp giúp chống thấm khí vượt trội

● Độ ổn định nhiệt: Hiệu suất tuyệt vời lên đến 2000°C trong môi trường khí trơ hoặc khí phản ứng

● Độ dẫn nhiệt: 120–200 W/m·K, đảm bảo độ đồng đều nhiệt độ vượt trội

● Khả năng chống ăn mòn: Độ ổn định vượt trội trong các loại khí quy trình gốc hydro, clo và halogen

● Bề mặt hoàn thiện: Đánh bóng gương và làm sạch bằng plasma để giảm thiểu sự phát sinh hạt

Các ứng dụng chính trong sản xuất chất bán dẫn

Lò nung gốm SiC đóng vai trò quan trọng trong một số giai đoạn sản xuất chất bán dẫn, bao gồm:

1. Sự phát triển của tinh thể và sự epitaxy

Được sử dụng trong hệ thống PVT (Vận chuyển hơi vật lý) và hệ thống phát triển epitaxial CVD, nồi nung SiC cung cấp một vật chứa ổn định, không phản ứng cho vật liệu nguồn và tinh thể đang phát triển.

Độ tinh khiết cao và hệ số giãn nở nhiệt phù hợp giúp giảm thiểu ô nhiễm và ứng suất, đảm bảo hình thành tinh thể không có khuyết tật cho chất nền SiC, GaN và Ga₂O₃.

2. Khuếch tán và ủ ở nhiệt độ cao

Trong quá trình xử lý nhiệt, khuếch tán và oxy hóa, nồi nấu SiC vẫn giữ được hình dạng và tính toàn vẹn về mặt hóa học trong quá trình tuần hoàn nhiệt cực độ, ngăn ngừa hiện tượng thoát khí và giải phóng hạt có thể ảnh hưởng đến chất lượng wafer.

3. Thiêu kết vật liệu và chế biến bột

Các nồi nung SiC cũng lý tưởng cho quá trình thiêu kết bột cấp bán dẫn, mang lại tính trơ về mặt hóa học ở nhiệt độ cao và độ ổn định về kích thước trong điều kiện chân không hoặc khí quyển được kiểm soát.

Ưu điểm của Semixlab

Tại Semixlab Semiconductor, chúng tôi không chỉ cung cấp linh kiện mà còn cung cấp các giải pháp kỹ thuật toàn diện để đáp ứng nhu cầu khắt khe của ngành sản xuất chất bán dẫn.

1. Thiết kế tùy chỉnh

● Hình dạng, độ dày và cấu hình đầu vào khí của nồi nấu được thiết kế riêng.

● Tương thích với các hệ thống phát triển tinh thể và CVD chính (LPE, PVT, AIXTRON, Veeco, v.v.).

2. Tư vấn kỹ thuật

● Các nhà khoa học vật liệu và kỹ sư quy trình nội bộ có hơn 20 năm kinh nghiệm trong ngành.

● Hỗ trợ thiết kế nhiệt, mô phỏng dòng khí và khớp quy trình.

3. Đảm bảo chất lượng trước khi giao hàng

● Mỗi nồi nấu kim loại đều trải qua quá trình kiểm tra độ chính xác về kích thước, thử nghiệm rò rỉ heli và phân tích độ nhám bề mặt.

● Dịch vụ phủ lớp bảo vệ CVD và đánh bóng gương tùy chọn giúp tăng tuổi thọ và độ sạch sẽ.

Nồi nấu gốm SiC Semixlab thiết lập một chuẩn mực mới về độ ổn định nhiệt, độ tinh khiết và độ bền hóa học trong quy trình xử lý bán dẫn tiên tiến. Với các tùy chọn thiết kế tùy chỉnh, tư vấn kỹ thuật và kiểm tra nghiêm ngặt trước khi xuất xưởng, Semixlab đảm bảo mọi sản phẩm đều đáp ứng các yêu cầu khắt khe của các ứng dụng bán dẫn nhiệt độ cao và độ tinh khiết cao. Chúng tôi rất mong nhận được những yêu cầu tiếp theo của quý khách.