EN 
EN
DA
NL
FI
FR
DE
IT
JA
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
SV
TL
ID
SK
UK
VI
TH
TR
FA
BE
LA
UZ
Bồn tắm thạch anh bán dẫn
Nhanh Chi tiết:
1. Tên gọi khác: Bể thạch anh bán dẫn, bể thạch anh cho chất bán dẫn, bể thạch anh cho chất bán dẫn.
2. Ứng dụng: Bồn thạch anh bán dẫn là một thành phần có độ tinh khiết cao, chống ăn mòn được thiết kế đặc biệt để làm sạch chính xác và xử lý hóa học trong sản xuất bán dẫn. Được thiết kế để tương thích với hệ thống WS-620C/WS-820C/WS-820L, bồn thạch anh này hoạt động trong điều kiện nhiệt độ cao (lên đến 175°C) và được tối ưu hóa để sử dụng với các dung dịch axit photphoric (H₃PO₄), đảm bảo hiệu suất vượt trội trong các quy trình làm sạch wafer quan trọng.
3. Các thông số cốt lõi:
Thạch anh nóng chảy (>99.99% SiO₂).
Tính trơ về mặt hóa học đặc biệt đối với H₃PO₄ (axit photphoric) ở nhiệt độ cao, ngăn ngừa sự phân hủy hoặc tạo ra hạt.
Chịu được hoạt động liên tục ở nhiệt độ 160°C và nhiệt độ đỉnh điểm là 175°C, duy trì tính toàn vẹn về cấu trúc và độ ổn định về kích thước.
Mô tả Chi tiết
Bể thạch anh bán dẫn là một thành phần có độ tinh khiết cao, chống ăn mòn được thiết kế đặc biệt để làm sạch chính xác và xử lý hóa học trong sản xuất bán dẫn. Được thiết kế để tương thích với hệ thống WS-620C/WS-820C/WS-820L, bể thạch anh này hoạt động trong điều kiện nhiệt độ cao (lên đến 175°C) và được tối ưu hóa để sử dụng với các dung dịch axit photphoric (H₃PO₄), đảm bảo hiệu suất vượt trội trong các quy trình làm sạch wafer quan trọng.
Các tính năng chính
Vật liệu vượt trội
Thạch anh có độ tinh khiết cao: Được sản xuất từ thạch anh tổng hợp nóng chảy (>99.99% SiO₂), đảm bảo giảm thiểu ô nhiễm và chống sốc nhiệt.
Kháng axit
Tính trơ về mặt hóa học đặc biệt đối với H₃PO₄ (axit photphoric) ở nhiệt độ cao, ngăn ngừa sự phân hủy hoặc tạo ra hạt.
Ổn định nhiệt
Chịu được hoạt động liên tục ở nhiệt độ 160°C và nhiệt độ đỉnh điểm là 180°C, duy trì tính toàn vẹn về cấu trúc và độ ổn định về kích thước.
Lợi ích hiệu suất
Kiểm soát ô nhiễm: Bề mặt hoàn thiện siêu mịn giúp giảm thiểu sự bám dính của các hạt, điều rất quan trọng đối với các quy trình nút bán dẫn dưới micron.
Độ bền: Khả năng chống ăn mòn axit và chịu nhiệt của thạch anh giúp kéo dài tuổi thọ, giảm thời gian chết máy và chi phí bảo trì.
Tính nhất quán của quy trình: Độ dẫn nhiệt ổn định đảm bảo phân phối nhiệt độ đồng đều, nâng cao hiệu quả làm sạch và khả năng lặp lại.
Tại sao nên chọn bồn thạch anh bán dẫn của Semixlab?
Chất lượng cấp bán dẫn: Được sản xuất trong môi trường phòng sạch để đáp ứng các tiêu chuẩn SEMI.
Giải pháp phù hợp: Có sẵn thiết kế tùy chỉnh để đáp ứng các yêu cầu quy trình cụ thể.
Độ tin cậy: Kiểm tra chất lượng nghiêm ngặt đảm bảo tuân thủ các yêu cầu của ngành công nghiệp bán dẫn.
Thông số kỹ thuật
| tài sản cơ khí | Mật độ (g/cm3) | 2.2 |
| Độ cứng Mohs | 6-7 | |
| Cường độ nén (MPa) | 1100 | |
| Độ bền kéo (N/mm2) | 50 | |
| Độ bền uốn (N/mm2) | 65 | |
| Độ bền xoắn (N/mm2) | 30 | |
| Mô đun Young (MPa) | 7.2x104 | |
| Tỷ lệ của Poisson | 0.16 | |
| Tính chất nhiệt | Hệ số giãn nở nhiệt (20~320℃,k-1) | 5.5x10-7 |
| Độ dẫn nhiệt (20℃,W·m-1k-1) | 1.4 | |
| Nhiệt dung riêng (20℃, J·kg-1k-1) | 670 | |
| Điểm làm mềm (℃) | 1700 | |
| Điểm ủ (℃) | 1180 | |
| Điểm biến dạng (℃) | 1080 | |
| tài sản điện | Điện trở suất (Ω·m) | 1x1016(20 ℃) |
| Hằng số điện môi (10GHz) | 3.74 | |
| Mất điện môi (10GHz) | 0.0002 | |
| Độ bền điện môi (V·m-1) | 3.7x107 |
Ứng dụng
Làm sạch tấm wafer: Loại bỏ chất cản quang, cặn và chất gây ô nhiễm trong dung dịch gốc H₃PO₄ sau quá trình khắc hoặc in thạch bản.
Quy trình nhiệt độ cao: Thích hợp cho các bước chế tạo chất bán dẫn tiên tiến đòi hỏi phản ứng hóa học mạnh ở nhiệt độ cao.
Khả năng tương thích: Lý tưởng cho hệ thống WS-620C/ WS-820C/ WS-820L trong các nhà máy sản xuất thiết bị logic, bộ nhớ hoặc nguồn điện.
