Cánh khuấy SiC

Ⅰ. Cánh tay đòn SiC có độ tinh khiết cao để xử lý wafer chính xác

Cánh tay đòn SiC là thành phần quan trọng được sử dụng trong thiết bị xử lý nhiệt để xử lý wafer trong các bước epitaxy, khuếch tán và oxy hóa trong chế tạo bán dẫn. Các đặc tính nhiệt và cơ học vượt trội của chúng khiến chúng trở nên lý tưởng cho môi trường nhiệt độ cao và ăn mòn trong phòng sạch.

II. Tổng quan về sản phẩm và ưu điểm chức năng

1. Tính chất vật liệu đặc biệt cho các ứng dụng hiệu suất cao

Cánh tay đòn SiC Cantilever của Semixlab được chế tạo từ lớp phủ silicon carbide tái kết tinh (R-SiC) hoặc CVD SiC có độ tinh khiết cao, mang lại độ dẫn nhiệt tuyệt vời (lên đến 120 W/m·K), độ giãn nở nhiệt thấp (~4.0 x 10⁻⁶/K) và khả năng chống ăn mòn và sốc nhiệt vượt trội. Những đặc tính này đảm bảo sự ổn định của wafer trong quá trình xử lý nhiệt độ cao, giảm thiểu nguy cơ biến dạng hoặc nhiễm bẩn wafer.

2. Độ ổn định kích thước và độ phẳng vượt trội

Với độ cong vênh tối thiểu ngay cả ở nhiệt độ trên 1400°C, thiết kế dạng công xôn đảm bảo việc đặt và chuyển wafer đồng đều, điều này rất quan trọng đối với tính đồng nhất của lớp epitaxy. Khối lượng thấp và độ cứng cao của SiC giúp cải thiện thông lượng hệ thống và đáp ứng nhiệt độ trong quá trình xử lý nhiệt nhanh.

3. Độ tinh khiết bề mặt đạt chuẩn phòng sạch

Nhờ bề mặt SiC dày đặc và mịn màng, cánh khuấy Semixlab giảm thiểu tối đa sự hình thành hạt và thoát khí. Điều này đặc biệt quan trọng trong các môi trường yêu cầu độ sạch đạt chuẩn Class 1 hoặc ISO 14644-1 Class 2.

4. Phù hợp với lò Epitaxial, lò khuếch tán và lò CVD

Cánh khuấy SiC Cantilever của chúng tôi được sử dụng rộng rãi trong các nền tảng lò MOCVD, LPCVD và lò oxy hóa, tương thích với các thương hiệu thiết bị hàng đầu như ASM, TEL và Veeco. Chúng được thiết kế để đạt độ đồng đều nhiệt và độ chính xác cơ học tối ưu, giúp đảm bảo năng suất cao hơn và giảm thiểu biến động quy trình.

III. Tại sao nên chọn Semixlab?

Chúng tôi cung cấp các dịch vụ kỹ thuật được thiết kế riêng, bao gồm:

● Tùy chỉnh sản phẩm về kích thước, cấu trúc và cấp vật liệu

● Tối ưu hóa lớp phủ để chịu nhiệt và hóa chất

● Khả năng tạo mẫu nhanh và sản xuất số lượng nhỏ

● Tư vấn kỹ thuật và thẩm định thiết kế

Là nhà sản xuất và nhà máy sản xuất hàng đầu Trung Quốc về sản phẩm cánh khuấy SiC, Semixlab luôn cam kết cung cấp công nghệ và giải pháp sản phẩm tùy chỉnh. Cho dù bạn muốn tối ưu hóa quy trình xử lý nhiệt hiện có, mua linh kiện thay thế hiệu suất cao hay cùng phát triển các giải pháp SiC tùy chỉnh, Semixlab sẽ cung cấp cho bạn hỗ trợ kỹ thuật và giao hàng.

● Các vật mang wafer epitaxy MOCVD

● Cánh tay cánh quạt lò oxy hóa và khuếch tán

● Hệ thống nạp wafer trong các công cụ LPCVD/CVD

● Cánh tay hỗ trợ susceptor tùy chỉnh cho sự phát triển của chất bán dẫn hợp chất